集束イオンビーム加工観察装置(FIB-SEM):JIB-4501
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機器名
集束イオンビーム(Focused Ion Beam :FIB)-走査型電子顕微鏡(Scanning Electron Microscope:SEM)加工観察装置
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メーカー
日本電子(株)
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メーカー(英語)
JEOL Ltd.
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型式
JIB-4501
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利用目的
試料加工、成膜、前処理
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担当
この装置は部局管理機器となりました。
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連絡先

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状況
正常
他部局に移設しました
この装置は、機械工学・材料棟122室に移設し、部局管理機器となりました。部局管理機器についてはセンターホームページの「部局管理機器について」をご覧ください。
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概要
FIB-SEMは、集束イオンビーム(FIB)を用いた加工機能と走査電子顕微鏡(SEM)の観察機能を同時に備えた装置です。数nm~数百nm径に集束したイオンビームを用いて試料表面を走査させることにより、特定領域の加工および成膜が可能です。像を観察しながら任意の箇所をサブミクロンオーダーで微細加工することが出来るため、SEM断面観察用試料、TEM薄膜試料作製などにも利用されます。
仕様
[FIB]
イオン源 Ga液体金属イオン源
加速電圧 1~30kV(ステップ)
倍率 x30(視野探し)
x100~300,000
最大ビーム電流 60nA(30kV時)
イオンビーム加工形状 短形、ライン、スポット
デポジッションガス源 炭素(C)、プラチナ(Pt)
[SEM]
ビーム源 LaB6
加速電圧 0.3kV~30kV
倍率 x5~x300,000
最大ビーム電流 1μA(30kV時)
[試料ステージ]
ゴニオメーターステージ
X:76mm Y:76mm
Z:5~48mm
T:-10°~90°
R:360°
試料サイズ:76mmφ
利用方法
学内向けについては、ライセンス方式になっております。機器担当者にお問い合わせください。