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集束イオンビーム加工観察装置(FIB-SEM)

  • 機器名

    集束イオンビーム(Focused Ion Beam :FIB)-走査型電子顕微鏡(Scanning Electron Microscope:SEM)加工観察装置

  • メーカー

    日本電子

  • 型式

    JIB-4501

  • 利用目的

    試料加工、成膜、前処理

  • 担当

    この装置は部局管理機器となりました。

  • 連絡先

    下記の部局管理機器についてをご参照ください

他部局に移設しました

この装置は、機械工学・材料棟122室に移設し、部局管理機器となりました。部局管理機器についてはセンターホームページの「部局管理機器について」をご覧ください。

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今までご利用いただき、ありがとうございました。

概要

 FIB-SEMは、集束イオンビーム(FIB)を用いた加工機能と走査電子顕微鏡(SEM)の観察機能を同時に備えた装置です。数nm~数百nm径に集束したイオンビームを用いて試料表面を走査させることにより、特定領域の加工および成膜が可能です。像を観察しながら任意の箇所をサブミクロンオーダーで微細加工することが出来るため、SEM断面観察用試料、TEM薄膜試料作製などにも利用されます。

仕様

[FIB]

 イオン源  Ga液体金属イオン源
 加速電圧  1~30kV(ステップ)
 倍率    x30(視野探し)
       x100~300,000
 最大ビーム電流    60nA(30kV時)
 イオンビーム加工形状    短形、ライン、スポット
 デポジッションガス源    炭素(C)、プラチナ(Pt)

[SEM]

 ビーム源  LaB6
 加速電圧  0.3kV~30kV
 倍率    x5~x300,000
 最大ビーム電流 1μA(30kV時)

[試料ステージ]

 ゴニオメーターステージ
  X:76mm Y:76mm
  Z:5~48mm
  T:-10°~90°
  R:360°
  試料サイズ:76mmφ

利用方法

学内向けについては、ライセンス方式になっております。機器担当者にお問い合わせください。